{"id":26211,"date":"2024-08-13T15:54:17","date_gmt":"2024-08-13T07:54:17","guid":{"rendered":"https:\/\/ljdevice.com.tw\/?p=26211\/"},"modified":"2024-08-13T15:54:17","modified_gmt":"2024-08-13T07:54:17","slug":"des-scientifiques-japonais-developpent-un-scanner-euv-simplifie-qui-peut-rendre-la-production-de-puces-considerablement-moins-chere","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ljdevice.com.tw\/fr\/des-scientifiques-japonais-developpent-un-scanner-euv-simplifie-qui-peut-rendre-la-production-de-puces-considerablement-moins-chere\/","title":{"rendered":"Des scientifiques japonais d\u00e9veloppent un scanner EUV simplifi\u00e9 qui peut rendre la production de puces consid\u00e9rablement moins ch\u00e8re"},"content":{"rendered":"

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Le professeur Tsumoru Shintake de l’Institut des sciences et technologies d’Okinawa (OIST) a propos\u00e9 un outil de lithographie EUV enti\u00e8rement nouveau et grandement simplifi\u00e9, moins cher que ceux d\u00e9velopp\u00e9s et fabriqu\u00e9s par ASML. Si l’appareil entre en production de masse, il pourrait remodeler l’industrie des \u00e9quipements de fabrication de puces, voire l’ensemble de l’industrie des semi-conducteurs.<\/p>\n

Le nouveau syst\u00e8me n’utilise que deux miroirs dans sa configuration de projection optique, ce qui constitue une diff\u00e9rence significative par rapport \u00e0 la configuration classique \u00e0 six miroirs. Le d\u00e9fi d’un tel syst\u00e8me optique est qu’il implique l’alignement de ces miroirs en ligne droite, ce qui garantit que le syst\u00e8me conserve des performances optiques \u00e9lev\u00e9es sans les distorsions habituelles associ\u00e9es \u00e0 la lumi\u00e8re EUV. Le nouveau chemin optique permet \u00e0 plus de 10 % de l’\u00e9nergie EUV initiale d’atteindre la plaquette, contre environ 1 % dans les configurations standard, une am\u00e9lioration qui constitue une avanc\u00e9e majeure.<\/p>\n

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(Cr\u00e9dit photo : Institut des sciences et technologies d’Okinawa)<\/span><\/figcaption><\/figure>\n

L’\u00e9quipe du professeur Shintake a r\u00e9solu deux d\u00e9fis majeurs en lithographie EUV : \u00e9viter les aberrations optiques et assurer un transfert de lumi\u00e8re efficace. La m\u00e9thode \u00ab champ \u00e0 double ligne \u00bb de l’OIST illumine le photomasque sans interf\u00e9rer avec le trajet optique, ce qui minimise les distorsions et am\u00e9liore la pr\u00e9cision de l’image sur la plaquette de silicium.<\/p>\n

L’un des principaux avantages de cette conception minimaliste est qu’elle am\u00e9liore la fiabilit\u00e9 et r\u00e9duit les complexit\u00e9s de maintenance. Un autre avantage de cette conception d’outil de lithographie EUV est une r\u00e9duction drastique de sa consommation d’\u00e9nergie. Gr\u00e2ce au chemin optique optimis\u00e9, le syst\u00e8me fonctionne avec une source lumineuse EUV de seulement 20 W, ce qui conduit \u00e0 une consommation d’\u00e9nergie totale inf\u00e9rieure \u00e0 100 kW. En revanche, les syst\u00e8mes de lithographie EUV traditionnels n\u00e9cessitent souvent plus de 1 MW de puissance. En raison de la faible consommation d’\u00e9nergie, le nouveau syst\u00e8me lithographique ne n\u00e9cessite pas de syst\u00e8me de refroidissement sophistiqu\u00e9 et co\u00fbteux.<\/p>\n

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(Cr\u00e9dit photo : Institut des sciences et technologies d’Okinawa)<\/span><\/figcaption><\/figure>\n

Les performances de ce nouveau syst\u00e8me ont \u00e9t\u00e9 rigoureusement v\u00e9rifi\u00e9es \u00e0 l’aide d’un logiciel de simulation optique, confirmant sa capacit\u00e9 \u00e0 produire des semi-conducteurs avanc\u00e9s. Le potentiel de la technologie a conduit \u00e0 un d\u00e9p\u00f4t de brevet par l’OIST, indiquant qu’elle est pr\u00eate pour un d\u00e9ploiement commercial.<\/p>\n